具有明确刻面的MOF薄膜的电合成！

金属有机框架（MOF）薄膜可用于分离、传感器、电池和（电）催化等领域。在不改变化学结构的情况下，控制 MOF 晶体的暴露面是提高其性能的有效策略。然而，原位制备的 MOF 薄膜往往缺乏精确的晶面控制。

鉴于此，近期由比利时鲁汶大学的 Jan Fransaer和中国杭州浙江大学的张轩等研究人员开发出一种简单的电化学方法，用于原位合成具有明确暴露面的 MOF 薄膜（HKUST-1 和 MOF-14）。该团队研究了沉积参数（包括溶液的pH值、电流密度、链接剂和溶剂的浓度）对沉积MOF裸露面的影响。

研究人员发现，通过调整这些参数来控制反应成分的过饱和度，可以精确调节暴露面。提高过饱和度可使暴露面具有更高的表面能。例如，就 HKUST-1 而言，只需提高电解液的 pH 值，就能将沉积 MOF 的首选暴露晶面从表面能较低的 (111) 转变为表面能较高的 (100)。

将具有特定暴露面的 MOF 薄膜电沉积在各种基材上（如铜网、铜泡沫和聚丙烯膜）上。这样，研究小组就能制备出适合不同应用的 MOF 薄膜。虽然他们专注于 HKUST-1 和 MOF-14 薄膜晶体形态的调控，但研究人员提出，这种策略对于制备其他具有明确暴露面的 MOF 薄膜也是可行的。

参考文献

Electrosynthesis of metal‐organic framework films with well‐defined facets,

Wei Guo, Wei Zhang, Ning Han, Sijie Xie, Zhenyu Zhou, Wouter Monnens, Omar Martinez Mora, Zhenhong Xue, Xueliang Zhang, Xuan Zhang, Jan Fransaer,

Chem. Eur. J. 2023.https://doi.org/10.1002/chem.202302338

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